
刘宁,博士,讲师,化学工程与工艺系,毕业于哈尔滨工程大学。
工作内容:教学科研
通讯地址:齐齐哈尔市文化大街42号化学与化学工程学院化学楼408室
电子邮件:liun96@outlook.com
研究领域:光电催化无机功能材料
招生学科:
教育及科研经历:
2014-2018年 黑龙江科技大学环境与化学学院 本科
2019-2020年 哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院 硕士
2020-2024年 哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院 博士
2024年至今 齐齐哈尔大学化学与化学工程学院 讲师 硕士生导师
科研论文
1. Y.T. Yang, L.J. Zhao*, N. Liu*, H. Pan*, Cobalt nitride/cobalt oxide-1.5 mesostructures from a Prussian blue analogue precursor: Molecular reconstruction synergizing radial valence gradient and interfacial built-in electric field for enhanced supercapacitor performance, Journal of Colloid and Interface Science, 709 (2026) 139930.
2. N. Liu*, Amidoxime modified polyacrylonitrile membrane for simultaneous seawater desalination and uranium extraction: molecular dynamics simulation and experiments, Progress in Nuclear Energy, 191 (2026) 106108.
3. W.L. Sha, H. Pan*, N. Liu*, Zeolitic imidazolate framework-derived hierarchical quaternary nickel cobalt sulfoselenide materials for lithium-sulfur batteries: Se doping enhances bimetallic atomic synergies to improve cathode reaction kinetics, Journal of Colloid and Interface Science, 694 (2025) 137681.
4. N. Liu, Photocatalysis uranium (VI) reduction at Cu2O/WO3|FTO Z-scheme
heterojunction systems, Journal of Environmental Chemical Engineering, 12 (2024) 112185.
5. N. Liu, Z-scheme heterojunction ZnS/WO3 composite: Photocatalytic reduction
of uranium and band gap regulation mechanism, Journal of Colloid and Interface Science, 630 (2023) 727–737.
6. N. Liu, Tubular LDHS@TCN composites for photo-assisted uranium extraction, Progress in Nuclear Energy, 165 (2023) 104910.
7. N. Liu, Magnetron sputtering ultra-thin TiO2 films for photocatalytic reduction
of uranium, Desalination, 543 (2022) 11612.
8. N. Liu, The microstructure and properties of GO hydration layers and the effects on the adsorption of UO2+ 2, Chemical Physics Letters. 771 (2021) 138494.
科研项目
1. 偕胺肟基改性D-π-A型共轭聚合物设计及光催化还原铀,刘宁,黑龙江省教育厅基本科研业务费,起止年月:2025.01—2028.12.
专利
1.王君, 刘宁. 一种海水淡化-提铀联产方法及装置, 发明专利, CN20221059898
2.3, 授权日期: 2022,12.
2.王君, 刘宁. 一种海水淡化-提铀联产半导体光还原膜及其制备方法, 发明专利, CN202210598986.1, 授权日期: 2022.12.